Canon, la empresa japonesa conocida por sus cámaras e impresoras, ha anunciado una nueva tecnología para la fabricación de chips que podría revolucionar la industria de los semiconductores. La tecnología, llamada [litografía por nanoimpresión], utiliza un proceso de estampación de patrones en obleas de silicio, en lugar de utilizar rayos de luz para grabarlas. Esto podría hacer que la producción de chips sea más rápida, más barata y más eficiente energéticamente.
El nuevo producto emplea una tecnología de control ambiental recientemente desarrollada que suprime la contaminación con partículas finas en el equipo y permite una alineación de alta precisión necesaria para la fabricación de semiconductores con un número cada vez mayor de capas y la reducción de defectos debidos a partículas finas. permite la formación de circuitos finos y complejos, contribuyendo a la fabricación de dispositivos semiconductores de última generación. Canon dice que ha desarrollado un prototipo de máquina que puede producir chips mediante litografía de nanoimpresión a una velocidad de 60 obleas por hora. La compañía planea comenzar la producción en masa de la máquina este 2024 y espera venderla a fabricantes de chips de todo el mundo. Canon cree que su tecnología podría ayudar a satisfacer la creciente demanda de chips en diversos campos, como la inteligencia artificial, 5G, la computación en la nube y los vehículos autónomos.
Esta nueva tecnología podría ayudar a aliviar la escasez de suministro e impulsar la innovación y la competitividad de la industria de los chips. Fuente: Canon
